荷蘭阿斯麥(ASML)公司的光刻機(jī)作為世界上最貴最精密的儀器,相信大家都有耳聞,它是加工芯片的設(shè)備。其最先進(jìn)的EUV(極紫外光)光刻機(jī)已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片,據(jù)說一套最先進(jìn)的7納米EUV光刻機(jī)價格高達(dá)1.2億美元,比一架波音737都貴。
下面是最近ASML公布的極紫外光光刻機(jī)內(nèi)部加工時的鏡頭,十分震撼:
在這臺光刻機(jī)中,每秒在真空環(huán)境中,從底部容器流出5萬滴融化的錫液,一對激光束照射每一滴液體產(chǎn)生等離子體,釋放出更短的波長,超高精度的反射鏡引導(dǎo)光線....7納米極紫外線光刻機(jī),分為13個系統(tǒng),3萬個分件,作動時每一分都要精準(zhǔn)。
每臺光刻機(jī)的裝配大約需要50000個零件左右,像德國蔡司的光學(xué)設(shè)備,美國Cymer的光源都是阿斯麥的上游供應(yīng)商。阿斯麥創(chuàng)立于1984年,是從飛利浦獨(dú)立出來的一個半導(dǎo)體設(shè)備制造商,,總部位于荷蘭費(fèi)爾德霍芬。
接下來我們走進(jìn)ASML光刻機(jī)工廠,看看世界上最貴精密儀器出廠地↓↓
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極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對芯片工藝有著決定性的影響。
光刻機(jī)(又稱曝光機(jī))是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ),世界上只有少數(shù)廠家掌握。光刻機(jī)的作用是掃描曝光芯片晶圓,刻蝕集成電路。精度越高的光刻機(jī),能生產(chǎn)出納米尺寸更小,功能更強(qiáng)大的芯片。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。
光刻機(jī)的價格昂貴,通常在3000萬至5億美元不等。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺價值高達(dá)1.2億美元的EUV(極紫外線)光刻機(jī),預(yù)計將于2019年初交貨。
(一臺10億元的機(jī)器,中國想買,荷蘭想賣 ,美國不干了!)
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